Erweiterungen zum Aufbau eines zwei Photonen basierten direkten Laserschreibers zur großflächigen, hochpäzisen Nanostrukturierung

Zusammenfassung Zur Realisierung extrem feiner Strukturen spielen direkte Laserschreibprozesse, basierend auf Zwei-Photonen-Absorptionsverfahren (2PA), eine zentrale Rolle in der Mikro- und Nanofabrikation. Dafür ist neben einem Lasersystem ein hochpräzises Positioniersystem notwendig. Meist basieren diese Positioniersysteme Prinzipien, die ohne zusätzliche Stiching-Verfahren nur kleine Positionierbereiche ermöglichen. Für piezoelektrische Tische sind zum Beispiel einige hundert Mikrometer möglich. Auf Galvanometer-Scannern basierten Systemen können sogar von wenigen zehn Mikrometern realisiert werden. Um Stiching Verfahren größere Fertigungsbereiche mit hoher Präzision für Nanostrukturierung zu ermöglichen, wurde Aufbau aus Femtosekundenlaser 2PA einer Nanopositionier- Nanomessmaschine (NMM-1) entwickelt [3]. Die NMM-1 an TU Ilmenau zusammen SIOS Meßtechnik GmbH entwickelt, Positioniervolumen 25mm×25mm×5mm Positionierauflösung im Sub-Nanometerbereich. Dieser den letzten Jahren weiter Strukturbreiten konnten reduziert werden [2]. Der Schwerpunkt liegt dabei Entwicklung funktionalen Einheit NMM-1. Dies soll Komplexität erhöhen Homogenität geschriebenen stark verbessern.